Na lince o délce 300 mm způsobuje odchylka teploty o 0,5 °C během procesu zahřívání fotoresistu nejen změny na grafu – zároveň se tím mění kritické...

Na výrobní lince není odchylka v teplotě pečení o půl stupně malá změna. Znamená to ztracený wafer, tloušťku fotorezistu mimo specifikaci a hrozbu...