Proč testujeme každou lampu zvlášť (a proč je to důležité pro váš výrobní proces) Při sušení výrobků musíte řešit vysoké napětí a velmi citlivou...

Maximální výkon při sušení čipů MEMS pomocí reflektujících topných prvků pokrytých zlatem Tento topný prvek jsme vyvinuli z jednoduchého důvodu:...

Na povrchu litografické desky může teplotní kolísání nebo pomalé zahřívání zničit to, co by mělo být stabilní proces. Sušení polovodičových destiček,...

Na linii litografie stačí, aby se soft bake posunul o půl stupně, a může to ovlivnit křivku CD a ztratit hodinu startů waferů. Vyvinuli jsme sušicí...

Out on the line, the Micro LED wafer comes out of cleaning and just sits there. Any moisture left on the surface is a straight invitation to pattern...

Na lince perovskitový stack nečeká. Rozpouštědlo musí odpařit, krystal musí nukleovat a rozhraní musí zůstat neporušená – to vše při velmi omezeném...