Di lantai produksi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan tahap-tahap penting di mana pola-pola yang diinginkan dibentuk. Jika suhu berubah sebesar 1°C saja, atau jika ada titik panas yang muncul di permukaan wafer, maka dimensi-dimensi kritis wafer akan berubah. Hal ini akan berdampak negatif pada kualitas wafer, bahkan sebelum wafer masuk ke chamber etching.
Apa yang penting secara teknis?
Kami menciptakan lampu inframerah tanpa ozon yang menggunakan emisi cahaya inframerah dekat, serta struktur kuarsa-halogen yang memungkinkan pengendalian suhu yang akurat, yaitu dalam rentang ±0,1°C. Tidak adanya ozon berarti tidak ada oksidan tambahan di udara ruang bersih, sehingga tidak ada reaksi kimia yang tidak diinginkan terjadi pada lapisan fotoresist selama proses pemanasan. Keluaran lampu tetap stabil dalam rentang 2% selama lebih dari 5.000 jam, dan laju pemanasan tetap konsisten dari siklus ke siklus.
Mengapa hal ini efektif dalam proses litografi?
Suhu “soft bake” digunakan untuk menghilangkan pelarut dan mengurangi tegangan pada lapisan film. Suhu “hard bake” digunakan untuk menentukan tingkat perlekatan lapisan film tersebut serta ketahanannya terhadap proses etching. Lampu ini memberikan pola suhu yang sama pada wafer ke-200 maupun wafer pertama, sehingga kontrol dimensi wafer tetap akurat. Lampu ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang dapat mengontrol partikel debu, serta kadar gas yang rendah. Dengan demikian, jumlah produk cacat berkurang, waktu pemrosesan berkurang, dan konsumsi energi tetap dapat diprediksi, karena cahaya inframerah dapat menembus lapisan fotoresist dengan efisien.
Apa yang perlu diperhatikan?
Pemasangan lampu harus memastikan bahwa ada jalur pandang yang jelas ke permukaan wafer, serta jalur panas yang bersifat reflektif. Jika ada halangan, maka akan terjadi efek bayangan pada permukaan wafer. Lampu akan berfungsi optimal jika suhunya disesuaikan dengan rentang penyerapan cahaya oleh substrat. Jika prosesnya berubah, perlu dilakukan penyesuaian kecil pada intensitas cahaya dan waktu pemanasan. Beri waktu 30 menit agar lampu mencapai keseimbangan suhu, sehingga hasilnya tetap konsisten.