Op de lithografiefaciliteiten is het ‘baken’ van het fotorezistent niet een pauze, maar eerder een grens voor de toleranties. Het gedrag van het fotorezistent wordt bepaald door de temperatuur. Een verschil van een paar tienden van een graad kan al leiden tot fouten in de breedte van de lijnen, die pas tijdens elektrische tests worden opgemerkt. In fabrieken met hoge productiesnelheden betekent dit direct afval en herwerkwerk. Wij hebben een nauwkeurige temperatuurregelaar ontwikkeld, zodat de thermische omstandigheden altijd binnen de gewenste grenzen blijven.
Wat belangrijk is onder de motorkap Wij gebruiken kortegolf-infraroodverwarming (SWIR), afgestemd op een specifiek spectrum, om energie snel in het fotorezistent te brengen – zonder dat er contact nodig is. De uniformiteit op het niveau van de wafer blijft binnen ±0,1°C over de hele oppervlakte. De herhaalbaarheid ligt bij ±0,05°C per procesronde. De reactietijd is voldoende snel om ook strenge thermische vereisten te kunnen vervullen. De gesloten regelingscyclus zorgt er bovendien voor dat er geen fouten optreden in de kritieke zones. De verwarmingsunit is compatibel met schoonruimtes van klasse 1–100. Het ontwerp zorgt er bovendien voor dat er minder deeltjes worden gegenereerd, doordat er materialen worden vermeden die gasen afgeven en omdat de kwetsbare oppervlakken gemakkelijk gereinigd kunnen worden. De betrouwbaarheid wordt gemeten aan de hand van de continuïteit van het gebruik: de apparaten werken 24/7 zonder onderbrekingen, en de prestaties blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur.
Waarom deze oplossing geschikt is voor de fabriek Bij de productie van halfgeleiders is temperatuur geen eenvoudig instelpunt, maar een procesvariabele. Deze verwarmingsunit zorgt voor consistente prestaties van het fotorezistent, verminderd de variatie in de afmetingen van de wafer en maakt het mogelijk om de controlegrenzen te versterken, zonder dat dit invloed heeft op de productietijd. Het resultaat is minder fouten, minder afval en een betere planning van de productietijd. De efficiëntie komt voort uit de SWIR-technologie en een slimme thermische beheersing. Hierdoor kunnen de operationele kosten worden verlaagd, zonder dat de precisie wordt aangetast.
Wat er moet worden gecontroleerd tijdens installatie en dagelijks gebruik Tijdens de installatie moet er goed worden gekeken naar de interface van het apparaat en het rooster voor het afvoeren van warme lucht. Als dit niet goed wordt gedaan, kunnen er lokale hittepunten ontstaan. De verwarmingsunit presteert het beste wanneer de ruimte schoon, droog en goed gezuiverd is. Residuele oplosmiddelen kunnen de thermische last verstoren en de uniformiteit verminderen. Het is belangrijk om de integratie van het apparaat te plannen in het preventieve onderhoudsprogramma. De kalibratie-intervallen blijven standaard, en de enige manier om thermische afwijkingen onder controle te houden, is door regelmatige controles uit te voeren.