Na linii produkcyjnej to właśnie w fazie delikatnego i intensywnego wypalania określa się dokładne parametry produktu. Nawet niewielka odchylenie o 1°C lub przechodzenie gorącego punktu po powierzchni płytki mogą spowodować zmiany w jej wymiarach. Jakość produktu pogarsza się jeszcze przed tym, jak płytka trafi do komory do etchingu.
Co jest istotne z technicznego punktu widzenia Stworzyliśmy lampę podczerwieni bez ozonu, która opiera się na emisji w zakresie bliskiej podczerwieni oraz architekturze kwarcowo-halogenniczej, która mieści się w granicach termicznych półprzewodnika. Dzięki temu uzyskujemy jednolitość temperatury na całej powierzchni płytki – wynosi ona mniej niż milimetr, a kontrola temperatury odbywa się z dokładnością ±0,1°C. Brak ozonu oznacza brak dodatkowych utleniaczy w powietrzu w pomieszczeniach czystych, a także brak niepożądanych reakcji chemicznych podczas procesu wypalania. Wydajność lampy pozostaje stabilna przez ponad 5000 godzin, a szybkość regulacji temperatury jest stała przy każdym cyklu.
Dlaczego ta lampa nadaje się do litografii Temperatura delikatnego wypalania wpływa na usuwanie rozpuszczalników i generowanie naprężeń w warstwie fotopolimerowej. Temperatura intensywnego wypalania natomiast decyduje o przyczepności i odporności materiału na procesy etchingu. Lampa zapewnia taką samą temperaturę na 200. płytce, jak i na pierwszej – dzięki temu kontrola wymiarów i jakości produktu nie ulega zmianom. Lampa nadaje się do używania w pomieszczeniach czystych klasy 1–100, gdzie istnieją środki kontroli ilości cząstek oraz niska emisja gazów. To sprawia, że zmniejsza się liczba produktów uszkodzonych, zmniejsza się konieczność ponownej obróbki, a zużycie energii pozostaje przewidywalne, ponieważ światło podczerwone skutecznie oddziałuje na fotopolimer.
Co należy uwzględnić podczas planowania Podczas instalacji konieczne jest zachowanie linii wzroku prostopadłej do powierzchni płytki oraz czystej, odbijającej ciepło ścieżki termicznej – każda przeszkoda może spowodować problemy z równomiernością nagrzewania. Lampa funkcjonuje najlepiej, gdy jej temperatura odpowiada pasmowi absorpcji substratu. Jeśli zmienisz proces produkcji, będziesz musiał dostosować intensywność światła i czas jego oddziaływania na płytkę. Należy dać lampie 30 minut na osiągnięcie stanu równowagi termicznej, aby zapewnić stałą precyzję procesu.