Die beste Infrarotlampe für Photoresist

Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800

Auf der Lithografiefläche wird durch das Weichbrennen und Hartbrennen das Profil des Fotorezysts festgelegt. Wenn die Temperatur um auch nur zwei Grad abweicht, entstehen Unregelmäßigkeiten im Bild. Die Wärmequelle muss zur Chemie des Fotorezysts passen – es darf weder zu hohe noch zu niedrige Temperaturen geben. Immer muss das ideale thermische Profil eingehalten werden.

Was wirklich wichtig ist: Wir verwenden Infrarotlampen, die kurzwellige Energie abgeben – diese Energie ist auf die Absorptionsfähigkeit des Fotorezysts abgestimmt. Die spektrale Ausstrahlung liegt genau dort, wo der Fotorezyst am empfindlichsten reagiert. Auf der Brennfläche bleibt die Temperatur konstant bei ±0,1°C. Die Genauigkeit der Einstellung bleibt außerdem bei ±0,5°C von Charge zu Charge. Die Geometrie des Quarzkorpusses und des Reflektors sorgt dafür, dass möglichst wenige Partikel entstehen. Das System ist für Reinraumbedingungen der Klasse 1–100 geeignet. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil, wobei die Intensitätsabweichung unter 5% liegt.

Best on Compact IR Heating Units

Die beste Infrarotlampe für Photoresist