Mikro LED Wafer Trocknungsheizung

Tue, 02 Jun 2026 05:59:29 +0800

Out on the line kommt das Micro-LED-Wafer aus der Reinigung und liegt einfach nur da. Jegliche Restfeuchtigkeit auf der Oberfläche ist eine direkte Einladung zum Kollaps des Musters, sobald der Photoresist aufgetragen wird, und ein einziger Streifen kann sich ungehindert durch Lithografie und Ätzen ziehen – Ausbeute verloren. Der Trockner muss diesen Film entfernen, ohne den Schichtaufbau zu beschädigen.

Was wir unter der Haube fokussiert haben
Wir haben diesen Wafer-Trocknungsheizer um eine präzise thermische Steuerung herum konstruiert. Über die aktive Fläche bleibt die Wafer-Uniformität innerhalb von ±0,1°C, sodass die Photoresist-Temperatur während Softbake und Hardbake innerhalb des Rezeptfensters bleibt. Kurzwellige Infrarotelemente ermöglichen ein schnelles, reproduzierbares Aufheizen – geringeres thermisches Budget, während die Polymerintegrität erhalten bleibt.
Er ist cleanroom-kompatibel bis Klasse 1–100, verwendet Materialien mit niedrigem Ausgasungsverhalten und einen Luftstromweg, der keine Partikel anzieht. Wir verifizieren die Null-Partikel-Generierung im Rahmen Ihrer Messtoleranzen, und die Plattform ist für einen 24/7-Betrieb ausgelegt, mit einer Verfügbarkeit, die auf null ungeplante Stillstände abzielt.

Mikro on Compact IR Heating Units

Mikro LED Wafer Trocknungsheizung