Nahinfrarot Emitterschirm

Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800

In der Fabrikhalle ist das Trocknen des Photoresists keineswegs ein passiver Vorgang. Eine Abweichung von 2 °C während des sanften Trocknungsprozesses führt dazu, dass sich die CD-Abweichungen im gesamten Produktionslot verteilen. Bei dem intensiven Trocknungsprozess entstehen Unregelmäßigkeiten – das bedeutet im Endeffekt eine schlechte Qualität des Produkts. Zudem können bei den thermischen Prozessen Partikel entstehen, wodurch die Ausbeute bereits vor Abschluss der Lithografie-Prozedur sinkt. Man braucht daher eine Heizquelle, deren Verhalten vorhersehbar, zuverlässig und schnell ist.

Was technisch wichtig ist: Wir verwenden Infrarotstrahler, die eine gleichmäßige Wärmeverteilung auf Sub-Millimeter-Ebene ermöglichen. Dadurch bleibt die Temperatur der Wafer über die gesamte aktive Fläche hinweg innerhalb von ±0,1 °C. Die Reaktionszeit ist kurz – es kommt zu einer schnellen Erhöhung bzw. Senkung der Temperatur. Dadurch bleibt die Temperatur in jedem Trocknungszyklus konstant. Die Leistung bleibt auch nach mehr als 5.000 Stunden stabil, mit weniger als 5 % Abweichung bezüglich der Luminenz und der Temperatur. Das Quarzkäfig sowie die speziell geformten Fasern sorgen dafür, dass keine Partikel entstehen – was für Reinräume der Klassen 1–100 unerlässlich ist.

Nah infrarot Wafer Trockner

Sun, 21 Jun 2026 06:06:29 +0800

Im Produktionsumfeld lernt man, sich mit den kleinen Details auseinanderzusetzen. Eine Abweichung von unter 0,1 °C während des Weichbrennvorgangs kann dazu führen, dass die kritischen Dimensionen der Wafer nicht mehr einhalten werden – dadurch gehen viele Wafer verloren. Herkömmliche Heizplatten kämpfen gegen die thermische Trägheit – NIR-Trockner hingegen nicht.

Was wir entwickelt haben und warum es wichtig ist
Wir haben diesen NIR-Trockner auf der Basis der Near-Infrared-Strahlungstechnologie konstruiert. Der Vorteil dabei ist die direkte Energieübertragung in die Photoresist-Schicht – schnell und effektiv. Dadurch wird eine Homogenität der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1 °C gewährleistet. Die Wiederholgenauigkeit ist so hoch, dass die Variationen zwischen den einzelnen Chargen innerhalb der zulässigen Grenzen bleiben. Der Trockner kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, ohne dass Partikel entstehen – das wird durch kontinuierliche Überwachung bestätigt. Die Anlage ist für einen 24/7-Betrieb geeignet; es gibt keine unplanmäßigen Stillstände. Die Lebensdauer beträgt Zehntausende von Betriebszyklen.

(NIR) on Compact IR Heating Units

Nahinfrarot Emitterschirm

Nah infrarot Wafer Trockner