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		<title>Ozono on Compact IR Heating Units</title>
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				<title>Lámpara infrarroja sin ozono</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/es/posts/ozone-free-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 06:52:00 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lámpara infrarroja sin ozono&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, es en las etapas de cocción suave y dura donde realmente se determinan las dimensiones críticas del producto final. Un desvío de solo 1°C, o si un punto caliente afecta la superficie del wafer, &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;puede&lt;/a&gt; hacer que estas dimensiones cambien. La tasa de &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;producci&lt;/a&gt;ón disminuye incluso antes de que el wafer llegue a la cámara de grabado.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que es importante desde el punto de vista técnico&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Hemos diseñado esta lámpara infrarroja sin ozono, basada en emisión de luz en el rango del infrarrojo cercano y en una estructura de cuarzo-halógeno que permite mantener una temperatura constante dentro de los límites tolerables para los semiconductores. Se logra así una uniformidad térmica a nivel submilimétrico en toda la superficie del wafer, con un control preciso de la temperatura dentro de un rango de ±0.1°C. Al no haber ozono, no hay oxidantes adicionales en el aire de la sala limpia, ni reacciones químicas indeseadas durante el proceso de cocción. La salida de energía permanece estable dentro del 2% durante más de 5,000 horas, y las tasas de calentamiento son constantes ciclo tras ciclo.&lt;/p&gt;</description>
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