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		<title>Tranche on Compact IR Heating Units</title>
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				<title>Chauffage de séchage de wafer Micro LED</title>
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				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 05:59:29 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Chauffage de séchage de wafer Micro LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Out on the line, la plaquette Micro LED sort du nettoyage et reste simplement en place. Toute humidité résiduelle à la surface constitue une invitation directe à l’effondrement du motif lors de l’application du photo-résist, et une seule trace peut traverser la lithographie et la gravure — rendement perdu. Le sécheur doit éliminer ce film sans endommager l’empilement.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce sur quoi nous nous sommes concentrés sous le capot&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Nous avons conçu ce système de séchage de plaquette autour d’un contrôle thermique précis. Sur la zone active, l’uniformité à l’échelle de la plaquette reste dans ±0,1°C, de sorte que la température du photo-résist pendant le soft bake et le hard bake reste dans la plage prescrite. Les éléments infrarouges à ondes courtes permettent une montée en température rapide et reproductible — un moindre budget thermique, tout en préservant l’intégrité du polymère.&lt;br&gt;&#xA;Le système est compatible salle blanche jusqu’à la classe 1–100, utilisant des matériaux à faible dégazage et un chemin d’air qui ne favorise pas l’introduction de particules. Nous vérifions l’absence totale de génération de particules par rapport à vos limites métrologiques, et la plateforme est conçue pour fonctionner 24h/24 et 7j/7 avec un taux de disponibilité visant zéro arrêt non planifié.&lt;/p&gt;</description>
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