Akurasi on Compact IR Heating Units

Sensor IR berkualitas tinggi untuk wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:22:46 +0800

Hentikan pemborosan waktu dalam menunggu wafer menjadi panas
Jika Anda pernah bekerja di pabrik semikonduktor, pasti Anda mengenal betapa menyebalkannya harus menunggu. Hal yang paling memperlambat proses produksi bukanlah prosesnya sendiri, melainkan waktu yang diperlukan untuk memanaskan maupun mendinginkan wafer. Sistem pemanasan menggunakan udara biasa sangat lambat. Pada dasarnya, sistem ini hanya menghembuskan udara panas ke sekeliling ruangan, dengan harapan wafer akan mendapatkan cukup panas untuk dapat diproses. Cara ini sangat lambat, dan hal ini jelas akan mengurangi efisiensi produksi.

Pemanas fotoresist dengan kontrol suhu yang presisi

Fri, 26 Jun 2026 04:50:38 +0800

Pada proses litografi, tahap pemanasan bukanlah masa istirahat, melainkan bagian dari proses produksi yang penting. Perilaku fotoresist dipengaruhi oleh suhu; perubahan suhu sebesar beberapa desimal derajat saja dapat menyebabkan kesalahan pada lebar garis yang dihasilkan, dan kesalahan tersebut baru akan terdeteksi saat dilakukan pengujian listrik. Di pabrik-pabrik dengan kapasitas produksi tinggi, hal ini berarti limbah yang harus dibuang dan proses produksi yang harus diulang. Kami merancang pemanas fotoresist berkualitas tinggi agar suhu tetap berada dalam kisaran yang ditentukan selama proses produksi berlangsung.