<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Emiter on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/id/tags/emiter/</link>
		<description>Recent content in Emiter on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/id/tags/emiter/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bulb pemancar sinar inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/id/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/id/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Bulb pemancar sinar inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di pabrik manufaktur chip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah proses yang pasif sama sekali. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan ringan saja sudah cukup untuk menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotoresist di seluruh permukaan wafer. Sedangkan ketidakteraturan suhu saat proses pemanasan intensif akan berdampak buruk pada kualitas chip yang dihasilkan. Selain itu, pembentukan partikel-partikel selama siklus termal juga dapat mengurangi tingkat keberhasilan proses litografi, bahkan sebelum proses tersebut selesai. Yang diperlukan adalah sumber panas yang dapat diandalkan, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;yaitu&lt;/a&gt; sumber panas yang stabil, bersih, dan cepat dalam memberikan panas.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
