<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezist on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/id/tags/fotorezist/</link>
		<description>Recent content in Fotorezist on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/id/tags/fotorezist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah terbaik untuk fotoresist</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/id/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/id/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah terbaik untuk fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi ini, proses pemanggangan yang dilakukan secara perlahan maupun cepat digunakan untuk menetapkan profil fotoresist yang diinginkan. Jika suhu berubah sebanyak dua derajat saja, hal tersebut akan menyebabkan variasi kualitas CD dan munculnya partikel-partikel tidak diinginkan. Sumber panas harus sesuai dengan sifat kimia fotoresistnya; tidak boleh ada penyesuaian yang berlebihan atau kurang. Harus ada profil termal yang tepat, setiap kali proses berlangsung.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;dalam&lt;/a&gt; proses produksi:&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan lampu inframerah yang menghasilkan energi gelombang pendek yang disesuaikan dengan cara fotoresist menyerap energi tersebut. Spektrum cahaya yang dihasilkan harus berada pada rentang yang cocok untuk respons fotoresist. Di permukaan wafer, keseragaman suhu mencapai ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya tetap dalam kisaran ±0,5°C dari satu batch ke batch lainnya. Konstruksi &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;pelindung&lt;/a&gt; &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;berupa&lt;/a&gt; kuarsa dan reflektor dibuat sedemikian rupa agar jumlah partikel tidak bertambah. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Intensitas cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan intensitas kurang dari 5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Pemanas fotoresist dengan kontrol suhu yang presisi</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/id/posts/precision-temperature-photoresist-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:50:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/id/posts/precision-temperature-photoresist-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Pemanas fotoresist dengan kontrol suhu yang presisi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses litografi, tahap pemanasan bukanlah masa istirahat, melainkan bagian dari proses produksi yang penting. Perilaku fotoresist dipengaruhi oleh suhu; perubahan suhu sebesar beberapa desimal derajat saja dapat menyebabkan kesalahan pada lebar garis yang dihasilkan, dan kesalahan tersebut baru akan terdeteksi saat dilakukan pengujian listrik. Di pabrik-pabrik dengan kapasitas produksi tinggi, hal ini berarti limbah yang harus dibuang dan proses produksi yang harus diulang. Kami merancang pemanas fotoresist berkualitas tinggi agar suhu tetap berada dalam &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;kisaran&lt;/a&gt; yang ditentukan selama proses produksi berlangsung.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
