<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/id/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/id/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bulb pemancar sinar inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/id/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/id/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Bulb pemancar sinar inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di pabrik manufaktur chip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah proses yang pasif sama sekali. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan ringan saja sudah cukup untuk menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotoresist di seluruh permukaan wafer. Sedangkan ketidakteraturan suhu saat proses pemanasan intensif akan berdampak buruk pada kualitas chip yang dihasilkan. Selain itu, pembentukan partikel-partikel selama siklus termal juga dapat mengurangi tingkat keberhasilan proses litografi, bahkan sebelum proses tersebut selesai. Yang diperlukan adalah sumber panas yang dapat diandalkan, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;yaitu&lt;/a&gt; sumber panas yang stabil, bersih, dan cepat dalam memberikan panas.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:06:29 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasilitas produksi ini, kita belajar untuk mengatasi berbagai masalah kecil yang muncul selama proses produksi. Perubahan suhu sebesar 0,1°C saja selama proses pemanasan dapat menyebabkan ketidakseragaman pada dimensi wafer, &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sehingga&lt;/a&gt; banyak wafer yang harus dibuang. Pemanas konvensional berusaha melawan efek inersia termal, sedangkan pengering wafer berbasis NIR tidak demikian.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang telah kami bangun, dan mengapa itu &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;penting&lt;/a&gt;&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami merancang pengering NIR ini dengan menggunakan metode pemanasan berbasis radiasi inframerah dekat. Tujuannya adalah untuk mentransfer energi secara langsung ke lapisan fotoresist, sehingga proses pemanasan berlangsung lebih cepat. Dengan cara ini, keseragaman suhu di permukaan wafer dapat dipertahankan dalam kisaran ±0,1°C, sehingga variasi antar wafer tetap berada dalam batas kontrol proses yang ditentukan. Pengering ini dapat beroperasi di ruang bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan partikel apa pun, sesuai hasil pemantauan secara real-time. Pengering ini &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;dirancang&lt;/a&gt; untuk beroperasi 24/7, tanpa adanya waktu henti yang tidak terduga, dan umurnya bisa mencapai puluhan ribu siklus.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
