Riscaldatore per l essiccazione dei wafer Micro LED

Tue, 02 Jun 2026 05:59:29 +0800

Out on the line, il wafer Micro LED esce dalla fase di pulizia e rimane fermo. Qualsiasi residuo di umidità sulla superficie rappresenta un’invito diretto al collasso del pattern quando viene applicato il photoresist, e una singola striatura può propagarsi attraverso tutta la litografia e l’incisione—resa compromessa. L’asciugatrice deve rimuovere quel film senza danneggiare lo stack.

What we focused on under the hood
Abbiamo progettato questo riscaldatore per asciugatura wafer attorno a un controllo termico rigoroso. Sull’area attiva, l’uniformità a livello wafer resta entro ±0,1°C, così la temperatura del photoresist durante il soft bake e l’hard bake rimane all’interno della finestra ricetta. Gli elementi a infrarossi a onde corte garantiscono un riscaldamento rapido e ripetibile—minore budget termico, mantenendo però l’integrità del polimero.
È compatibile con camere bianche fino a Class 1–100, utilizzando materiali a basso outgassing e un percorso di flusso d’aria che non favorisce la generazione di particelle. Verifichiamo l’assenza di particelle rispetto ai limiti di metrologia richiesti, e la piattaforma è costruita per funzionare 24/7 con un uptime che mira a zero fermate non programmate.

Micro on Compact IR Heating Units

Riscaldatore per l essiccazione dei wafer Micro LED