Forniture per la produzione di wafer B2B

Wed, 17 Jun 2026 15:36:32 +0800

Nelle linee di produzione, la catena di lavorazione non aspetta mai. Le unità di litografia funzionano una dopo l’altra, e se ci sono delle deviazioni anche minime durante il processo di essiccazione, il controllo delle dimensioni critiche diventa impossibile. La variazione termica non è un problema semplice da risolvere: si traduce in scarti, necessità di rifiniture e riduzione della capacità produttiva.

Ciò che è importante per ottenere risultati ottimali
Abbiamo progettato i sistemi di riscaldamento per la produzione dei wafer in modo che utilizzino un riscaldamento a infrarossi controllato, insieme a un sistema termico basato sul quarzo. Questo permette di mantenere una uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer entro ±0,1°C. Proprio questa precisione garantisce che il flusso del fotoreattivo sia prevedibile e che la larghezza delle linee tracciate rimanga stabile. Il sistema funziona in ambienti puliti di classe 1–100, senza alcuna generazione di particelle; la contaminazione viene misurata in termini di difetti per wafer, non per turno di lavoro. Indichiamo chiaramente la durata di vita dei riscaldatori in ore: le unità in uso riescono spesso a funzionare per 5.000 ore senza problemi.

Provviste on Compact IR Heating Units

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