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		<title>グローバル on Compact IR Heating Units</title>
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				<title>世界の半導体機器貿易</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;世界の半導体機器貿易&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;300mmウェーハを使う場合、フォトレジストのベイク処理中に0.5℃の温度変動があると、それは単にグラフ上に反映されるだけではありません。実際には、重要な寸法がナノメートル単位で変化し、その結果、歩留まりの低下という形で直接的な影響が出ます。リソグラフィーやレジスト処理において、温度というのは単なる補助的な要因ではありません。それ自体がプロセスの重要な要素なのです。&lt;/p&gt;</description>
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