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		<title>글로벌 on Compact IR Heating Units</title>
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				<title>전 세계 반도체 장비 무역</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/ko/posts/global-semiconductor-machinery-trade/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;전 세계 반도체 장비 무역&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;300mm 공정에서는 포토레지스트를 건조할 때 0.5°C의 온도 변동이 단순히 그래프에만 나타나는 것이 아닙니다. 이러한 온도 변동은 반도체 칩의 크기에 수나노미터 단위로 영향을 미치며, 결국 생산 효율 저하로 이어집니다. 리소그래피 및 포토레지스트 처리 과정에서 온도는 단순한 설정값이 아니라, 공정의 핵심 요소입니다.&lt;/p&gt;</description>
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