웨이퍼 공정용 온도 센서

Fri, 10 Jul 2026 12:48:56 +0800

팹 내 탄소 배출량 줄이기: 왜 적외선 가열이 효과적인가?
반도체 제조 공장을 탄소 중립 상태로 만들고 싶다면, 더 이상 기존의 저항식 가열기에 의존해서는 안 됩니다. 그러한 가열기들은 너무 많은 에너지를 낭비합니다.
우리는 최근 웨이퍼 처리 장비에 적외선 가열기를 사용하고 있습니다. 그 이유는 간단합니다. 적외선은 웨이퍼 표면에 직접 작용하기 때문입니다. 웨이퍼를 따뜻하게 하기 위해 전체 챔버를 가열할 필요가 없으므로, 에너지를 훨씬 효율적으로 사용할 수 있습니다.
핵심은 속도입니다.
적외선 시스템은 단파 복사를 사용합니다. 공기가 따뜻해질 때까지 기다릴 필요가 없으며, 광자는 즉시 웨이퍼 표면에 도달합니다. 매우 빠른 속도입니다. 우리는 이러한 시스템을 설정하여 몇 초 안에 목표 온도에 도달하도록 합니다. 그렇게 하면 웨이퍼당 소비되는 전력량이 훨씬 줄어듭니다.
게다가, 기존의 오븐 대신 적외선 가열기를 사용하면 열량도 훨씬 적어집니다. 가열해야 할 금속의 양이 적어지므로, 온도를 일정하게 유지하는 데 드는 에너지도 줄어듭니다.
하지만 주의해야 할 점이 있습니다. 그냥 “설정해놓고 잊어버릴” 수는 없습니다.
친환경적인 목표를 달성하려면 온도가 과도하게 상승하지 않도록 해야 합니다. 그래서 우리는 장비 내부에 고감도 센서를 설치합니다. 이 센서들은 웨이퍼가 목표 온도에 도달하는 순간 즉시 전력 공급을 조절합니다. PID 설정이 제대로 되지 않으면 에너지를 낭비할 뿐만 아니라 웨이퍼가 변형될 위험도 있습니다. 누구도 그런 상황을 원하지 않습니다.
알아두어야 할 타협점입니다.
이러한 고출력 적외선 가열기는 생산 효율성에는 좋지만, 냉각 시스템에는 큰 부담을 줍니다. 그냥 기존 장비에 그냥 설치해서는 안 됩니다. 냉각 시스템이 충분히 강력해야 합니다. 그렇지 않으면 장비가 변형될 수도 있습니다.
“그린 팩토리” 프로젝트에서는 오래된 냉각 시스템 대신 최적화된 적외선 가열기를 사용할 때 가장 좋은 결과가 나타납니다. 이것이 바로 수율을 해치지 않으면서 탄소 발자국을 줄일 수 있는 가장 효과적인 방법입니다.

고정밀 온도 제어형 포토레지스트 가열기

Fri, 26 Jun 2026 04:50:38 +0800

리소그래피 공정에서 ‘베이킹 단계’는 일시적인 정지가 아니라, 허용 오차의 한계를 결정하는 중요한 과정입니다. 포토레지스트의 성능은 온도에 의해 결정되며, 단 몇 십 분의 1도의 온도 변화만으로도 선의 굵기에 오차가 생길 수 있습니다. 이러한 오차는 전기 테스트를 해보기 전까지는 발견될 수 없습니다. 대량 생산 공장에서는 이러한 문제가 발생하면 그 제품은 폐기되거나 재가공되어야 합니다. 저희는 매번 공정의 허용 범위 내에서 온도를 유지하기 위해 고정밀 온도 조절 기능을 갖춘 히터를 사용합니다.

온도 on Compact IR Heating Units

웨이퍼 공정용 온도 센서

고정밀 온도 제어형 포토레지스트 가열기