<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>B2B on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/ms/tags/b2b/</link>
		<description>Recent content in B2B on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 15:36:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/ms/tags/b2b/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Kerajaan untuk pengeluaran wafer B2B</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/ms/posts/b2b-wafer-manufacturing-supplies/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 15:36:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/ms/posts/b2b-wafer-manufacturing-supplies/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Kerajaan untuk pengeluaran wafer B2B&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai pengeluaran, proses pembuatan wafer tidak pernah terhenti. Unit-unit litografi beroperasi secara berturut-turut. Jika suhu semasa proses pembakaran berubah sedikit saja, kawalan dimensi yang tepat akan terjejas. Perubahan suhu bukanlah masalah kecil – ia akan menyebabkan pembaziran bahan, kerja pembaikan yang banyak, dan pengurangan kapasiti pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina sistem pemanasan untuk pengeluaran wafer dengan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;menggunakan&lt;/a&gt; pemanasan inframerah yang terkawal, serta struktur termal berasaskan kuarsa. Ini memastikan suhu di permukaan wafer tetap stabil pada &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;tahap&lt;/a&gt; ±0.1°C. Ketepatan suhu inilah yang memastikan aliran bahan fotorezistan berjalan lancar dan lebar garisan pada wafer tetap stabil. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, di mana tiada zarah kotoran yang boleh wujud. Kualiti sistem ini diukur berdasarkan bilangan kecacatan pada setiap wafer, bukan setiap syif kerja. Tempoh hayat pemanas juga dapat dikira dalam jam; unit-unit yang digunakan biasanya dapat beroperasi selama 5,000 jam tanpa masalah.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
