Bulb on Compact IR Heating Units

Lampu inframerah dengan reflektor emas

Wed, 22 Jul 2026 04:37:27 +0800

Menjaga kebersihan bilik kawalan kelas 100

Ketika bekerja dalam persekitaran kelas 100, walaupun hanya sedikit debu sekalipun boleh menyebabkan masalah besar. Masalahnya ialah kebanyakan pemanas menghasilkan zarah-zarah halus yang boleh merosakkan keadaan steriliti di kawasan tersebut.

Kami telah menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan lampu inframerah berkuasa tinggi yang diperbuat daripada kuarsa berkualiti tinggi, digabungkan dengan reflektor yang dilapisi emas.

Mengapa emas?
Walaupun kedengaran mewah, sebenarnya ia berkaitan dengan prinsip fizik. Emas sangat efektif dalam memantulkan sinar inframerah. Selain itu, berbeza dengan aluminium, emas tidak akan beroksida. Ini penting kerana ia memastikan suhu tetap stabil selama ribuan jam, tanpa adanya debu yang terbentuk pada permukaannya. Emas juga membantu menghantar tenaga secara efektif ke bahan yang diproses, sambil memastikan bahagian luar lampu tetap sejuk.

Lampu pengering wafer yang berharga murah

Thu, 02 Jul 2026 08:25:17 +0800

Pada permukaan litar tersebut, perubahan suhu atau proses pemanasan yang lambat boleh merosakkan hasil pengeluaran yang sepatutnya stabil. Proses pengeringan wafer, pembakaran lembut, dan pembakaran keras semuanya memerlukan haba yang konsisten, cepat, dan bersih. Kami menggunakan mentol halogen kuarsa inframerah gelombang pendek untuk memastikan kawalan suhu yang tepat, tanpa perlu membayar harga yang mahal.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan mentol halogen kuarsa inframerah gelombang pendek untuk memindahkan tenaga dengan cepat dan efektif. Masa tindak balasnya adalah dalam masa sub-saat, jadi profil suhu dapat dikawal dengan tepat. Ini sangat penting apabila kita ingin melindungi struktur lapisan tipis dan filem berkepadatan rendah. Di seluruh permukaan wafer, output lampu diselaraskan agar suhunya tetap sama pada tahap ±0.1°C di permukaan photoresist. Ini memastikan dimensi kritikal dan sudut sisi wafer tetap konsisten.

Bulb pemancar cahaya inframerah dekat (NIR)

Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800

Di bilik proses pembuatan wafer, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang berlaku secara pasif. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan lembut akan menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotoresist di seluruh permukaan wafer. Adapun ketidakseragaman semasa proses pemanasan keras pula akan mengakibatkan kualiti wafer menurun. Selain itu, pembentukan zarah-zarah kecil semasa proses pemanasan juga boleh merosakkan kualiti wafer sebelum proses litografi selesai. Oleh itu, diperlukan sistem pemanasan yang boleh dikawal dengan tepat, bersih, dan cepat.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan mentol penghasil cahaya inframerah dekat (NIR) yang membantu mencipta medan haba yang seragam pada skala sub-milimeter. Dengan cara ini, suhu wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan yang terlibat. Proses pemanasan berlaku dengan cepat—dalam masa milisaat saja—sehingga setiap kitaran pemanasan memberikan hasil yang sama setiap kali. Kualiti wafer tetap stabil walaupun setelah 5,000 jam penggunaan, dengan perubahan intensiti cahaya dan suhu yang kurang dari 5%. Struktur kuarsa dan filamen yang digunakan memastikan pengurangan zarah-zarah kecil, yang sangat penting untuk mencapai standard bilik bersih kelas 1–100.