<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoresist on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/ms/tags/fotoresist/</link>
		<description>Recent content in Fotoresist on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/ms/tags/fotoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah terbaik untuk penggunaan dalam proses fotoresist.</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/ms/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/ms/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah terbaik untuk penggunaan dalam proses fotoresist.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi ini, proses pembakaran perlu dilakukan dengan tepat agar profil fotorezistan dapat dipertahankan. Jika suhu berubah sebanyak dua darjah sahaja, ia akan menyebabkan variasi pada kualiti CD dan masalah lain. Sumber haba haruslah sesuai dengan sifat kimia fotorezistan tersebut—tanpa lebihan atau kekurangan haba. Profil suhu yang betul sangat penting, setiap kali proses berlangsung.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di belakang tabir&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan lampu inframerah yang menghasilkan tenaga gelombang pendek yang disesuaikan dengan cara fotorezistan menyerapnya. Output spektralnya diselaraskan agar sepadan dengan respons fotorezistan tersebut. Di &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;permukaan&lt;/a&gt; wafer, suhu harus kekal stabil pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula harus berada dalam lingkungan ±0.5°C antara satu kumpulan wafer dengan kumpulan yang lain. Struktur kuarsa dan reflektor direka untuk meminimumkan penghasilan zarah-zarah tertentu. Sistem ini juga direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Intensiti cahaya tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
