IR on Compact IR Heating Units

Hujung seramik untuk pemancar IR

Tue, 28 Jul 2026 05:06:02 +0800

Mengapa Penutup Seramik Sangat Penting untuk Emitter IR Anda

Emitter IR terdedah kepada tekanan yang tinggi semasa beroperasi. Suhu yang sangat panas ini memberi beban yang besar pada semua komponen yang terlibat. Penutup seramik merupakan komponen penting yang berfungsi sebagai penebat, agar wayar filamen tidak bersentuhan dengan badan lampu atau bracketnya.

Jika penutup seramik ini rosak, ia akan menyebabkan masalah seperti gangguan arus atau litar pintas. Tentu saja, tiada siapa yang mahu perkara ini berlaku.

Kami menguji setiap unit secara menyeluruh. Tiada pengecualian.

Beberapa kedai hanya menguji sebilangan kecil unit daripada satu batch sahaja. Kami tidak melakukan hal tersebut. Setiap unit yang keluar dari kedai kami akan menjalani ujian tekanan voltan dan rintangan penebat yang teliti.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 23 Jul 2026 11:35:11 +0800

Menjaga Kebersihan Wafer Anda: Cara Kami Mengatasi Masalah Pemanasan IR yang Berlebihan
Sejujurnya, apabila lampu IR tidak dapat bertahan di bawah beban yang tinggi, itu merupakan situasi yang sangat buruk. Anda bukan sahaja akan menghadapi masa henti operasi yang lama, tetapi juga serpihan kaca dan filamen tungsten yang jatuh terus ke atas wafer anda. Jika satu daripada tiub tersebut pecah, seluruh kumpulan wafer tersebut akan menjadi tidak berguna.

Kami telah meluangkan banyak masa untuk mencari cara untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:22:46 +0800

Berhenti membuang masa menunggu wafer menjadi panas

Jika anda pernah bekerja di fasiliti pengeluaran semikonduktor, pasti anda tahu betapa menyakitkannya harus menunggu.
Halangan terbesar dalam proses pemprosesan semikonduktor bukanlah prosesnya sendiri, tetapi masa yang diperlukan untuk memanaskan dan mendinginkan wafer tersebut. Sistem penyejukan menggunakan udara biasa sangat lambat. Anda sebenarnya hanya membawa udara panas ke sekeliling bilik tersebut, dengan harapan wafer akan mendapat cukup haba untuk diproses. Cara ini sangat lambat dan mengurangkan kelajuan pengeluaran.