Bulb pemancar cahaya inframerah dekat (NIR)

Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800

Di bilik proses pembuatan wafer, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang berlaku secara pasif. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan lembut akan menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotoresist di seluruh permukaan wafer. Adapun ketidakseragaman semasa proses pemanasan keras pula akan mengakibatkan kualiti wafer menurun. Selain itu, pembentukan zarah-zarah kecil semasa proses pemanasan juga boleh merosakkan kualiti wafer sebelum proses litografi selesai. Oleh itu, diperlukan sistem pemanasan yang boleh dikawal dengan tepat, bersih, dan cepat.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan mentol penghasil cahaya inframerah dekat (NIR) yang membantu mencipta medan haba yang seragam pada skala sub-milimeter. Dengan cara ini, suhu wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan yang terlibat. Proses pemanasan berlaku dengan cepat—dalam masa milisaat saja—sehingga setiap kitaran pemanasan memberikan hasil yang sama setiap kali. Kualiti wafer tetap stabil walaupun setelah 5,000 jam penggunaan, dengan perubahan intensiti cahaya dan suhu yang kurang dari 5%. Struktur kuarsa dan filamen yang digunakan memastikan pengurangan zarah-zarah kecil, yang sangat penting untuk mencapai standard bilik bersih kelas 1–100.

Pemangkas kelembapan wafer menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR)

Sun, 21 Jun 2026 06:06:29 +0800

Di fasiliti pengeluaran yang canggih ini, kita perlu belajar untuk mengatasi masalah-masalah kecil yang mungkin timbul semasa proses pengeluaran. Perubahan suhu sebanyak kurang dari 0.1°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan ketidakkonsistenan pada dimensi wafer, dan akibatnya banyak wafer akan terbuang. Plat pemanas tradisional memerlukan masa yang lama untuk menstabilkan suhu, sedangkan pengering wafer jenis NIR tidak memerlukan masa sebegitu.

Apa yang telah kami bina, dan mengapa ia penting
Kami membina pengering NIR ini menggunakan prinsip pemanasan sinar inframerah dekat. Tujuannya adalah untuk mentransfer tenaga secara langsung ke lapisan fotoresist, dengan cepat. Dengan cara ini, kita dapat mencapai konsistensi suhu sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, sehingga variasi suhu antara wafer-wafer yang berbeza dapat dikawal dengan baik. Pengering ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah yang berbahaya, seperti yang disahkan melalui pemantauan secara berterusan. Platform ini direka untuk beroperasi 24/7, tanpa gangguan yang tidak dijangka, dan jangka hayatnya boleh mencapai puluhan ribu kitaran.

(NIR) on Compact IR Heating Units

Bulb pemancar cahaya inframerah dekat (NIR)

Pemangkas kelembapan wafer menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR)