Penderia suhu untuk alat pemrosesan wafer

Fri, 10 Jul 2026 12:48:56 +0800

Mengurangkan Pelepasan Karbon di Kilang Semikonduktor: Mengapa Penggunaan Pemanas Inframerah Berkesan

Jika anda ingin menjadikan kilang semikonduktor anda bebas karbon, anda perlu berhenti bergantung pada pemanas jenis resistif yang lama. Pemanas tersebut sangat membuang tenaga.

Kami kini menggunakan lampu pemanas inframerah untuk alat-alat pemprosesan wafer. Sebabnya mudah: cahaya inframerah dapat menyejuk permukaan wafer secara langsung. Dengan cara ini, tiada tenaga yang dibazirkan untuk memanaskan seluruh bilik pemprosesan hanya untuk memanaskan wafer. Ini merupakan cara yang lebih efisien untuk menggunakan tenaga.

Pemanas fotoresist dengan ketepatan suhu yang tinggi

Fri, 26 Jun 2026 04:50:38 +0800

Dalam proses litografi, langkah pembakaran bukanlah sekadar waktu berhenti seketika, tetapi merupakan batasan toleransi yang penting. Tingkah laku bahan fotorezist dipengaruhi oleh suhu; perubahan suhu sebanyak beberapa persepuluh darjah Celsius pun boleh menyebabkan kesilapan pada lebar garisan yang dicetak, dan kesilapan ini hanya akan dikesan semasa ujian elektrik. Di kilang-kilang yang menghasilkan produk dalam kuantiti yang besar, hal ini akan menyebabkan pembaziran bahan dan kerja-kerja pembaikan yang memerlukan masa yang panjang. Kami membina pemanas fotorezist yang sangat tepat untuk memastikan suhu kekal dalam lingkungan yang ditetapkan, setiap kali proses berlangsung.

Suhu on Compact IR Heating Units

Penderia suhu untuk alat pemrosesan wafer

Mengurangkan Pelepasan Karbon di Kilang Semikonduktor: Mengapa Penggunaan Pemanas Inframerah Berkesan

Pemanas fotoresist dengan ketepatan suhu yang tinggi