Drooglamp voor brandstofcelkatalysator

Tue, 02 Jun 2026 08:48:33 +0800

Op de lithografielijn is een soft bake die zelfs een halve graad afwijkt al voldoende om de CD-curve te verschuiven en een uur aan waferstarts te verbranden. We hebben de brandstofcelkatalysator drooglamp ontwikkeld om die variabiliteit uit het thermische budget te halen. Deze levert snelle, droge warmte in een near-infrared (NIR) band die overeenkomt met de absorptie van de fotoresist, zodat je herhaalbare solventverwijdering krijgt zonder overshoot.
Wat technisch van belang is
De lamp werkt op een smalle NIR-band voor snelle, volumetrische verwarming. Dat betekent dat oppervlak en bulk van de fotoresist gelijktijdig opwarmen—minder thermische vertraging, minder temperatuurgradiënt. De uniformiteit op wafer-niveau blijft binnen ±0,1°C over het belichtingsveld, en de temperatuurherhaalbaarheid blijft strak van cyclus tot cyclus. De emitter zit in een kwartsconstructie die geschikt is voor Class 1–100 cleanrooms, met nul deeltjesgeneratie die in-situ is geverifieerd. De outputstabiliteit wijkt minder dan 3% af over 5.000 uur, wat aansluit bij 24/7 fabriekschema’s.
Dit is waarom de lamp effectief is voor fotoresistverwerking: je hebt hetzelfde temperatuurprofiel nodig voor soft bake en hard bake, dag en nacht, batch na batch. Deze lamp bereikt snel de setpoint, houdt deze stabiel en koelt zonder afwijkingen af—minder nabewerkingen, betere opbrengst bij strakke nodes. Het schone thermische profiel vermindert ook het energieverbruik per wafer doordat er geen restwarmte in fixtures en afzuiging wordt gedumpt.
In de packaging vertaalt dit zich naar minder herbaking en consistentere hechting vóór wire bonding.
Een paar aandachtspunten. Bij installatie moet de lamp worden afgestemd op de kamergeometrie en de utiliteitseisen van je fab—spanning, stroomsterkte, koelvloeistofstroom en afzuiging. De outputintensiteit is afgestemd op fotoresist; andere materialen kunnen een ander NIR-profiel vereisen.
Plan een korte inbedrijfstellingsrun om het recept vast te leggen op je filmlaag. Daarna blijft het proces herhaalbaar met routinematige inspectie en kalibratie van de lamp.

Drogingslamp voor perovskietzonnecellen

Sun, 31 May 2026 04:40:09 +0800

Aan de productielijn zit de perovskietstapel niet stil te wachten. Het oplosmiddel moet verdampen, het kristal moet nucleëren, en de interfaces moeten intact blijven—terwijl het thermische budget uiterst beperkt is. Eén hotspot, één koude rand, en de cel valt net buiten het procesvenster. De opbrengst daalt bijna net zo snel als de cyclustijd toeneemt.
Wij hebben onze perovskietzonnelamp voor droging gebouwd met die realiteit in gedachten. We behandelen de droging van dunne films op dezelfde manier als een thermische stap aan de voorkant van een halfgeleiderproces—want uiteindelijk is het precies dat.

Cel on Compact IR Heating Units

Drooglamp voor brandstofcelkatalysator

Drogingslamp voor perovskietzonnecellen