Keramisch infrarood verwarmingspaneel

Mon, 08 Jun 2026 04:59:21 +0800

Op de lithografievloer is een drift van 0,5°C tijdens de soft bake géén “kleine fout.” Het betekent een afgekeurde batch. Het is verspilde thermische capaciteit en kritische dimensionale controle die uit balans is geraakt. Wij hebben onze keramische infrarood verwarmingspanelen ontworpen om die drift bij de bron te stoppen.

Wat technisch telt

Het paneel gebruikt keramische infraroodstralers om de wafer met snelle, directe stralingswarmte te behandelen en houdt thermische uniformiteit binnen sub-millimeter toleranties over het gehele oppervlak. U krijgt een thermisch veld dat reproduceerbaar is en dat nauwer gereguleerd wordt dan bij een conventioneel verwarmingsplateau.
In de praktijk betekent dit ±0,1°C stabiliteit over het bakoppervlak, waardoor de fotolakstroming consistent blijft en lijnbreedtes voorspelbaar zijn. Class 1–100 cleanroomcompatibiliteit zit verwerkt in het ontwerp: materialen met lage uitstoot, afdichtingen, en een oppervlak dat geen deeltjes loslaat. Het systeem draait 24/7 zonder ongeplande stilstand en de verwarmingselementen behouden een stabiele output voor duizenden uren.

Keramiek on Compact IR Heating Units

Keramisch infrarood verwarmingspaneel

Wat technisch telt