Wereldwijde handel in halfgeleidertechnologie apparatuur

Tue, 30 Jun 2026 04:58:12 +0800

Op een lijn van 300 mm heeft een temperatuurschommeling van 0,5°C tijdens het verhitten van de fotoresist niet alleen invloed op de metingen – deze schommeling zorgt er ook voor dat belangrijke dimensies enkele nanometers veranderen. Deze schommelingen leiden rechtstreeks tot een afname van de productiekwaliteit. In de litografie en het verwerken van fotoresist is temperatuur geen bijzaak; het is juist een cruciale factor in het proces.

Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken kwartsverwarmingselementen zonder halogenen, die zijn geoptimaliseerd voor gebruik in het infrarode gebied. Hierdoor wordt de temperatuur op het oppervlak van de wafer gelijkmatig gehouden, binnen een marge van ±0,1°C. De herhaalbaarheid is ≤±0,2°C per batch, zodat de parameters van het verhittingsproces constant blijven, zelfs wanneer de omgevingsomstandigheden veranderen.

Wereldwijd on Compact IR Heating Units

Wereldwijde handel in halfgeleidertechnologie apparatuur