<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/pl/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/pl/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Źródło światła w zakresie bliskiego podczerwieni (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/pl/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/pl/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Źródło światła w zakresie bliskiego podczerwieni (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linii produkcyjnej proces wysuszania fotorezystu wcale nie jest procesem pasywnym. Nawet niewielka zmiana temperatury o 2°C podczas delikatnego wysuszania powoduje rozprzestrzenianie się różnic w parametrach płytek pomiędzy poszczególnymi &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;partiami&lt;/a&gt; produktów. A jeśli mowa o intensywnym wysuszaniu, to to prowadzi do powstania niedoskonałości na powierzchni płytek. Ponadto, powstawanie cząstek podczas cykli termicznych może negatywnie wpłynąć na jakość produktu, zanim jeszcze dokona się proces litografii. Potrzebna jest więc temperatura, która charakteryzuje się przewidywalnością, czystością i szybkim działaniem.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Suszarka płytek w zakresie bliskiego infraczerwieni (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/pl/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:06:29 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/pl/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Suszarka płytek w zakresie bliskiego infraczerwieni (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na hali produkcyjnej uczymy się radzić sobie z drobnymi problemami. Nawet niewielka odchylenie temperatury o 0,1°C podczas procesu suszenia może doprowadzić do błędów w wymiarach płytek krzemowych, co &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;skutkuje&lt;/a&gt; utratą dużych ilości produktu. Tradycyjne grzałki walczą z efektem bezwładności cieplnej. Natomiast suszarki typu NIR tego nie robią.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co stworzyliśmy i dlaczego to ważne&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Stworzyliśmy tę suszarkę na bazie promieniowania w zakresie bliskiego podczerwieni. Kluczowym elementem jest szybka przenoszenie energii prosto do warstwy fotorezystu. Dzięki temu uzyskujemy jednolitość temperatury na całej powierzchni płytki krzemowej w zakresie ±0,1°C, przy tym powtarzalność wynosi tak wysoką wartość, że zmiany pomiędzy poszczególnymi partiami pozostają poniżej dopuszczalnych granic. Suszarka może pracować w pomieszczeniach klasy czystości 1–100, bez żadnej generacji cząsteczek, co potwierdza monitorowanie w czasie rzeczywistym. Platforma jest przeznaczona do pracy 24/7, bez żadnych przerw w produkcji, a jej żywotność wynosi dziesiątki tysięcy cykli.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
