Na área de produção, é durante os processos de “soft bake” e “hard bake” que o padrão desejado é definido. Se houver uma variação de apenas 1°C, ou se um ponto quente se movimentar sobre a wafer, as dimensões críticas da mesma começam a se alterar. Isso afeta negativamente a qualidade do produto, mesmo antes que a wafer chegue à câmara de etching.
O que é importante, do ponto de vista técnico Desenvolvemos lâmpadas de infravermelho sem ozônio, baseadas em emissão de luz no espectro do infravermelho próximo, além de uma estrutura de quartzo-halogênio que mantém a temperatura dentro dos limites toleráveis para semicondutores. Isso permite uma uniformidade térmica de sub-milímetros em toda a superfície da wafer, com controle preciso da temperatura, mantendo-a dentro de ±0,1°C. A ausência de ozônio significa que não há oxidantes adicionados ao ar da sala limpa, evitando também reações químicas indesejadas durante o processo de secagem da fotoresta. A saída de calor permanece estável dentro de 2% ao longo de mais de 5.000 horas, e as taxas de aumento de temperatura são consistentes de ciclo em ciclo.
Por que isso funciona bem na litografia A temperatura do “soft bake” determina a remoção de solventes e a tensão na camada formada na wafer. Já a temperatura do “hard bake” influencia a aderência da camada e sua resistência à etching. A lâmpada garante um perfil térmico uniforme, tanto na 200ª wafer quanto na primeira, assim, o controle das dimensões críticas e a precisão na aplicação da fotoresta não são afetados. Ela funciona bem em salas limpas de classe 1–100, onde os materiais utilizados são livres de partículas e há baixa emissão de gases. Isso resulta em menos produtos defeituosos, menos necessidade de retrabalho, e consumo de energia previsível, já que a radiação infravermelha atua eficazmente sobre a fotoresta.
O que você precisa levar em consideração A instalação da lâmpada deve garantir uma visão direta para a superfície da wafer, além de um caminho térmico limpo e refletivo. Qualquer obstrução pode causar problemas. A lâmpada funciona melhor quando sua frequência de emissão está alinhada com a banda de absorção do substrato. Portanto, se você alterar o processo de produção, será necessário fazer ajustes mínimos na intensidade e no tempo de exposição. É necessário deixar a lâmpada funcionando por 30 minutos para que atinja o equilíbrio térmico e garanta a repetibilidade dos resultados.