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		<title>Fotopolímero on Compact IR Heating Units</title>
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		<description>Recent content in Fotopolímero on Compact IR Heating Units</description>
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				<title>A melhor lâmpada infravermelha para fotoresistente</title>
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				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;A melhor lâmpada infravermelha para fotoresistente&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No ambiente de litografia, os processos de cura em temperatura baixa e alta são utilizados para definir o perfil do fotoreativo. Se a temperatura variar mesmo que dois graus, isso pode causar variações na qualidade do CD e problemas relacionados. A fonte de calor precisa ser adequada à química do fotoreativo – sem excesso ou deficiência de calor. É preciso ter sempre um perfil térmico correto.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante por trás disso tudo?&lt;/strong&gt;&#xA;Utilizamos lâmpadas infravermelhas que emitem energia de onda curta, ajustada de acordo com a capacidade de absorção do fotoreativo. A intensidade espectral deve estar centrada onde o fotoreativo realmente responde. Na superfície de cura, a uniformidade da temperatura é mantida entre ±0,1°C, e a repetibilidade do ponto de referência fica dentro de ±0,5°C de lote para lote. O invólucro de quartzo e a geometria do refletor são projetados para minimizar a geração de partículas. O sistema é adequado para salas limpas de classe 1–100. A intensidade de saída permanece estável por mais de 5.000 horas, com variação inferior a 5%.&lt;/p&gt;</description>
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