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		<title>Global on Compact IR Heating Units</title>
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				<title>Comércio global de máquinas para semicondutores</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/pt/posts/global-semiconductor-machinery-trade/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Comércio global de máquinas para semicondutores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Em uma linha de 300 mm, uma variação de temperatura de 0,5°C durante o processo de secagem do fotoresist não afeta apenas os gráficos de controle – ela também faz com que uma dimensão crítica mude em nanômetros. Essa variação acaba se traduzindo em perda de produtividade. Na litografia e no processamento de fotoresist, a temperatura não é um fator secundário; ela é essencial para o processo todo.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que realmente importa, tecnicamente&lt;/strong&gt;&#xA;Construímos o subsistema térmico utilizando elementos de aquecimento de quartzo, sem halogênios e otimizados para operação em faixa de infravermelho próximo. Esses elementos são ajustados para garantir uma uniformidade de temperatura de até ±0,1°C em toda a superfície de secagem. A repetibilidade é de ≤±0,2°C de lote para lote, garantindo que os parâmetros de secagem permaneçam estáveis, mesmo quando as condições ambientais mudam.&lt;/p&gt;</description>
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