Precisão on Compact IR Heating Units

Sensor IR de precisão para wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:22:46 +0800

Pare de perder tempo esperando que as suas bolachas semicondutoras esquentem!
Se você já passou algum tempo em uma fábrica de semicondutores, sabe bem o quanto é frustrante ter que esperar.
O maior obstáculo no processo de processamento profundo não é, geralmente, o próprio processo em si – mas sim o tempo necessário para aquecer e esfriar os componentes. O sistema de ar forçado tradicional é muito lento. Na verdade, você está apenas soprando gás quente pelo ambiente, na esperança de que a bolacha semicondutora receba energia suficiente para funcionar corretamente. É um método lento e ineficiente, que prejudica a produtividade.

Aquecedor de fotoresistente de temperatura precisa

Fri, 26 Jun 2026 04:50:38 +0800

Na etapa de litografia, o processo de aquecimento não representa uma pausa no processo de produção – na verdade, é um limite de tolerância. O comportamento do fotorelativo é determinado pela temperatura; até mesmo uma variação de poucos décimos de grau pode causar erros na largura das linhas impressas, erros que só serão detectados durante os testes elétricos. Em fábricas de grande escala, isso resulta em desperdício e necessidade de reprocessamento. Nós desenvolvemos um aquecedor de fotorelativo com precisão térmica para manter a temperatura dentro dos limites estabelecidos pelo processo, a todo momento.