(NIR) on Compact IR Heating Units

หลอดกำเนิดแสงในช่วงอินฟราเรดใกล้ (NIR)

Sun, 28 Jun 2026 05:27:58 +0800

ในห้องปฏิบัติการผลิตชิปนั้น กระบวนการอบฟอโตเรสิสต์ไม่ใช่กระบวนการที่เกิดขึ้นโดยอัตโนมัติเลย หากอุณหภูมิเพิ่มขึ้นเพียง 2°C ในช่วงการอบแบบอ่อน ก็จะส่งผลให้ความแตกต่างของอุณหภูมิเกิดขึ้นทั่วพื้นที่การผลิต ส่วนการอบแบบแข็งนั้น หากมีความไม่สม่ำเสมอเกิดขึ้น ก็จะส่งผลให้ผลลัพธ์การผลิตแย่ลง นอกจากนี้ การเกิดอนุภาคในระหว่างการอบก็อาจทำให้อัตราการผลิตลดลงก่อนที่กระบวนการลิโธกราฟีจะเสร็จสิ้น ดังนั้นจึงจำเป็นต้องมีระบบควบคุมอุณหภูมิที่มีความแม่นยำ สามารถคาดเดาได้ และมีความรวดเร็ว

สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค เราใช้หลอดกำเนิดแสงอินฟราเรดใกล้ชิด เพื่อให้เกิดสนามความร้อนที่สม่ำเสมอในระดับไม่เกินหลายมิลลิเมตร ทำให้อุณหภูมิของแผ่นวีเซอร์อยู่ในช่วง ±0.1°C ทั่วพื้นที่การผลิต การตอบสนองของระบบนั้นรวดเร็วมาก โดยใช้เวลาเพียงไม่กี่มิลลิวินาทีในการเพิ่มหรือลดอุณหภูมิ ดังนั้นแต่ละรอบการอบจึงมีอุณหภูมิที่สม่ำเสมอเสมอ ผลลัพธ์การผลิตจะคงที่ตลอดระยะเวลามากกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีการเปลี่ยนแปลงของค่าลูเมนและอุณหภูมิน้อยกว่า 5% นอกจากนี้ ตัวเรือนที่ทำจากควอตซ์และโครงสร้างของไส้หลอดยังช่วยลดการเกิดอนุภาค ซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับห้องที่มีมาตรฐาน Class 1–100

เหตุใดจึงมีความสำคัญในกระบวนการลิโธกราฟี ในกระบวนการลิโธกราฟี หลอดกำเนิดแสงอินฟราเรดจะส่งแสงไปยังฟอโตเรสิสต์โดยตรง โดยไม่ทำให้ผนังห้องร้อนขึ้น ดังนั้นจึงไม่มีปัญหาเรื่องความล่าช้าในการเพิ่มหรือลดอุณหภูมิ ทำให้ความสม่ำเสมอของการอบดีขึ้น ส่วนการอบแบบแข็งนั้น ก็จะทำให้การเคลือบฟอโตเรสิสต์มีความสม่ำเสมอมากขึ้น และไม่มีสารละลายตกค้าง ซึ่งช่วยลดข้อบกพร่องและเพิ่มความแม่นยำในการกัดกร่อน ดังนั้นจึงทำให้อัตราการผลิตในครั้งแรกสูงขึ้น มีการปรับแก้น้อยลง และใช้พลังงานน้อยลง นอกจากนี้ ยังมีค่าอุณหภูมิที่สามารถคาดเดาได้อีกด้วย

สิ่งที่ควรจำไว้ หลอดกำเนิดแสงอินฟราเรดเป็นอุปกรณ์ที่ต้องมีการจัดวางในตำแหน่งที่เหมาะสม โดยต้องมีการปรับค่าการจัดวางและระยะห่างให้เหมาะสม มิฉะนั้นก็จะทำให้เกิดความไม่สม่ำเสมอได้ นอกจากนี้ ผู้ใช้งานยังต้องตรวจสอบให้แน่ใจว่าอุปกรณ์นี้สามารถทำงานร่วมกับตัวควบคุมกระบวนการ กลไกการปิด/เปิด และระบบควบคุมอื่นๆ ได้ดี นอกจากนี้ ยังต้องมีการป้องกันความร้อนที่เหมาะสม เพื่อไม่ให้อุปกรณ์อื่นๆ ร้อนขึ้นด้วย

เครื่องอบวัสดุด้วยแสงอินฟราเรดใกล้ (NIR)

Sun, 21 Jun 2026 06:06:29 +0800

ในโรงงานผลิตชิป คุณจะได้เรียนรู้วิธีการจัดการกับปัญหาเล็กๆ น้อยๆ ต่างๆ การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิเพียง 0.1 องศาเซลเซียสในระหว่างขั้นตอนการอบชิป ก็อาจส่งผลให้ค่าความแม่นยำของขนาดชิปเปลี่ยนไป และทำให้ชิปจำนวนมากเสียหายได้ หม้ออบแบบดั้งเดิมมีข้อจำกัดในการจัดการกับความเฉื่อยทางความร้อน แต่เครื่องอบชิปแบบ NIR ไม่มีข้อจำกัดดังกล่าว

สิ่งที่เราสร้างขึ้น และเหตุใดมันถึงมีความสำคัญ
เราสร้างเครื่องอบชิปแบบ NIR ขึ้นมาโดยใช้หลักการการให้ความร้อนแบบอินฟราเรด โดยจุดมุ่งหมายคือการถ่ายโอนพลังงานไปยังชั้นฟอโตเรซิสต์โดยตรงและอย่างรวดเร็ว วิธีนี้ช่วยให้ค่าอุณหภูมิของชิปมีความสม่ำเสมออยู่ในช่วง ±0.1 องศาเซลเซียสตลอดกระบวนการอบ ซึ่งช่วยให้ความแปรปรวนภายในชุดผลิตต่างๆ อยู่ในขอบเขตที่สามารถควบคุมได้ เครื่องนี้สามารถทำงานได้ในห้องที่มีมาตรฐานความสะอาดระดับ Class 1–100 โดยไม่มีการก่อให้เกิดอนุภาคใดๆ ซึ่งสามารถตรวจสอบได้จากการตรวจสอบในสถานที่จริง เครื่องนี้สามารถทำงานได้ตลอด 24/7 โดยไม่มีการหยุดทำงานโดยไม่ได้กำหนดไว้ และมีอายุการใช้งานหลายหมื่นครั้ง

เหตุใดมันจึงเหมาะกับกระบวนการผลิตชิป
ในกระบวนการผลิตชิป ขั้นตอนการอบชิปมีผลต่อความหนืดของฟอโตเรซิสต์ และยังมีผลต่อการดูดซับตัวทำละลายออกมา รวมถึงยังมีผลต่อรูปร่างของผนังด้านข้างของชิปด้วย เครื่องอบชิปแบบ NIR ช่วยให้อุณหภูมิที่พื้นผิวชิปมีความสม่ำเสมอ ไม่ใช่ที่แผ่นอบเท่านั้น ดังนั้นค่าอุณหภูมิจึงมีความสม่ำเสมอตั้งแต่ชุดผลิตแรกจนถึงชุดผลิตที่ 50

นอกจากนี้ ยังช่วยให้ขั้นตอนการอบชิปสั้นลง ใช้พลังงานน้อยลง และลดจำนวนชิปที่เสียหายจากปัญหาความไม่สม่ำเสมอของอุณหภูมิ ทำให้กระบวนการผลิตมีความยืดหยุ่นมากขึ้น และสามารถนำมาใช้ร่วมกับกระบวนการผลิตที่มีอยู่ได้อย่างง่ายดาย

สิ่งที่คุณต้องเตรียมไว้
เครื่องอบชิปแบบ NIR ต้องการมุมมองที่ตรงไปยังชิป และต้องมีเส้นทางการสะท้อนแสงที่สามารถควบคุมได้ ถาดหรืออุปกรณ์ที่ใช้รองชิปอาจบดบังแสงได้ ดังนั้นควรเตรียมอุปกรณ์ที่เหมาะสมไว้ และจัดวางให้อยู่ในตำแหน่งที่เหมาะสมกับระบบการผลิตของคุณ

เมื่ออุปกรณ์ถูกจัดวางในตำแหน่งที่เหมาะสมแล้ว เครื่องอบชิปก็จะสามารถทำงานได้อย่างมีประสิทธิภาพ โดยมีการบำรุงรักษาเพียงเล็กน้อยเท่านั้น แต่ความแม่นยำในการจัดวางอุปกรณ์นั้นจะสูงกว่าระบบที่ใช้การสัมผัสโดยตรง