http://ir-heat-unit.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/ Recent content in Фотополімер on Compact IR Heating Units Hugo uk Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800 http://ir-heat-unit.com/uk/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/ Wed, 01 Jul 2026 12:32:20 +0800 http://ir-heat-unit.com/uk/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/ <p><img src="http://ir-heat-unit.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Найкраща інфрачервона лампа для фотополімерів"></p> <p>На поверхні пристрою для літографії процеси „м’якого“ та „жорсткого“ висушування дозволяють фіксувати оптимальні умови для роботи фотолаку. Якщо температура зміниться навіть на два градуси, це призведе до нестабільності якості продукції. Джерело тепла має відповідати хімічним властивостям фотолаку – без перевищення чи недостатнього значення температури. Потрібен саме правильний температурний профіль, щоразу.</p> <p><strong>Що є важливим під час роботи пристрою</strong><br> Ми використовуємо інфрачервоні лампи, які випромінюють енергію короткої довжини хвилі, що відповідає способу поглинання енергії фотолаку. Спектральний випромінювання налаштовано так, щоб воно впливало саме на ту частину фотолаку, яка потребує обробки. На поверхні платформи температура залишається стабільною в межах ±0,1°C, а точність регулювання – в межах ±0,5°C між серіями продукції. Кварцова оболонка та конструкція відбивача допомагають зменшити кількість частинок у повітрі. Система призначена для роботи в умовах чистої кімнати класу 1–100. Інтенсивність випромінювання залишається стабільною протягом 5 000 і більше годин, з відхиленням менше 5%.</p>