<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>机器设备；机械装置 on Compact IR Heating Units</title>
		<link>http://ir-heat-unit.com/zh/tags/%E6%9C%BA%E5%99%A8%E8%AE%BE%E5%A4%87%E6%9C%BA%E6%A2%B0%E8%A3%85%E7%BD%AE/</link>
		<description>Recent content in 机器设备；机械装置 on Compact IR Heating Units</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 04:58:12 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-unit.com/zh/tags/%E6%9C%BA%E5%99%A8%E8%AE%BE%E5%A4%87%E6%9C%BA%E6%A2%B0%E8%A3%85%E7%BD%AE/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>全球半导体设备贸易</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/zh/posts/global-semiconductor-machinery-trade/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 04:58:12 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/zh/posts/global-semiconductor-machinery-trade/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;全球半导体设备贸易&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在300毫米光刻线中，光刻胶烘烤过程中的0.5℃温度变化不仅会体现在数据图表上，还会导致关键尺寸出现纳米级的偏差。而这些偏差最终会体现为产量损失。在光刻和光刻胶处理过程中，温度并非一个可以随意调整的参数，而是决定工艺质量的关键因素。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>半导体机械零件贸易</title>
				<link>http://ir-heat-unit.com/zh/posts/semiconductor-machinery-parts-trade/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:16:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-unit.com/zh/posts/semiconductor-machinery-parts-trade/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-unit.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;半导体机械零件贸易&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在晶圆厂车间，烘烤温度偏移半度绝非小幅变化。这意味着晶圆报废、光刻胶厚度超出规格，以及即将发生的生产线停机。在光刻工艺中，温控不是可有可无的条件，而是工艺本身。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
