V prostoru určeném k litografii se pomocí procesů „měkkého“ a „tvrdého“ vypalování fixuje profil fotoresisty. I když dojde k odchylce teploty o pouhé...

V prostředí litografie není krok vypalování pouze pauzou – jedná se o hranici tolerance. Chování fotoresistu je ovlivněno teplotou, a odchylka o...