על רצפת הליתוגרפיה, בשלבי החימום הרך והקשה, נקבע הפרופיל של הפוטורזיסט. אם הטמפרטורה משתנה בשני מעלות בלבד, עלולים להיווצר שינויים באיכות המוצר. מקור...

בתהליך הליתוגרפיה, שלב החימום אינו עצירה בתהליך – אלא חלק בלתי נפרד מהתהליך עצמו. התנהגות הפוטורזיסט מושפעת מהטמפרטורה, ושינוי של מספר עשיריות מעלה...