Di area litografi ini, proses pemanggangan yang dilakukan secara perlahan maupun cepat digunakan untuk menetapkan profil fotoresist yang diinginkan. Jika suhu berubah sebanyak dua derajat saja, hal tersebut akan menyebabkan variasi kualitas CD dan munculnya partikel-partikel tidak diinginkan. Sumber panas harus sesuai dengan sifat kimia fotoresistnya; tidak boleh ada penyesuaian yang berlebihan atau kurang. Harus ada profil termal yang tepat, setiap kali proses berlangsung.
Yang penting dalam proses produksi: Kami menggunakan lampu inframerah yang menghasilkan energi gelombang pendek yang disesuaikan dengan cara fotoresist menyerap energi tersebut. Spektrum cahaya yang dihasilkan harus berada pada rentang yang cocok untuk respons fotoresist. Di permukaan wafer, keseragaman suhu mencapai ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya tetap dalam kisaran ±0,5°C dari satu batch ke batch lainnya. Konstruksi pelindung berupa kuarsa dan reflektor dibuat sedemikian rupa agar jumlah partikel tidak bertambah. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Intensitas cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan intensitas kurang dari 5%.
Inilah alasan mengapa sistem ini efektif digunakan dalam proses produksi. Lampu-lampu ini bekerja 24/7 tanpa adanya masa henti yang tidak terduga, sehingga proses penggunaan fotoresist tetap berjalan lancar. Lampu-lampu ini dapat mencapai suhu yang ditentukan dalam waktu singkat, sehingga penggunaan energi pun berkurang. Akibatnya, jumlah wafer yang gagal berkurang, waktu perbaikan berkurang, dan kontrol ketebalan lapisan fotoresist menjadi lebih akurat. Karena profil termalnya tetap konsisten antar alat yang digunakan, proses kalibrasi menjadi lebih cepat, dan transfer proses juga tetap konsisten.
Beberapa catatan praktis: Pemasangan lampu harus disesuaikan dengan tegangan, konektor, dan dimensi lubang masuknya pada alat tersebut. Intensitas cahaya sangat dipengaruhi oleh jarak antara lampu dan substrat, sehingga kita perlu menentukan batas toleransi jarak tersebut dan merekomendasikan kalibrasi berkala terhadap alat pengukur intensitas cahaya. Untuk fotoresist tipe deep-UV, pastikan spektrum cahayanya sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan oleh pemasok—beberapa formulasi membutuhkan spektrum yang lebih sempit. Rencanakan sistem pendinginan dan pengelolaan EMI sejak awal, agar jumlah partikel dan gangguan elektromagnetik tetap berada dalam batas yang ditentukan.