Di lantai pengeluaran, proses pembakaran lembut dan keraslah yang menentukan kualiti produk akhir. Jika suhu berbeza sebanyak 1°C sahaja, atau jika terdapat kawasan panas pada wafer tersebut, dimensi kritikal wafer akan berubah. Ini akan menyebabkan penurunan kualiti wafer sebelum ia sampai ke bilik pengasidan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami telah mencipta lampu inframerah tanpa ozon yang menggunakan pancaran inframerah dekat, serta reka bentuk kuarsa-halogen yang memastikan suhu tetap stabil dalam lingkungan semikonduktor. Ini membolehkan suhu yang seragam pada seluruh permukaan wafer, dengan ketepatan ±0.1°C. Tanpa ozon, tiada bahan oksidatif tambahan dalam udara di bilik bersih, dan tiada reaksi kimia yang tidak diingini yang boleh merosakkan lapisan fotoresist semasa proses pembakaran. Prestasi lampu tetap stabil dalam lingkungan 2% selama lebih dari 5,000 jam, dan kadar perubahan suhu juga tetap konsisten dari satu kitaran ke kitaran yang lain.
Mengapa ia sesuai untuk proses litografi
Suhu pembakaran lembut membantu menghilangkan pelarut dan mengurangkan tekanan pada lapisan fotoresist. Suhu pembakaran keras pula menentukan daya lekat dan ketahanan lapisan fotoresist terhadap proses pengasidan. Lampu ini memberikan profil haba yang sama pada wafer ke-200 seperti pada wafer pertama, jadi kawalan dimensi kritikal wafer tetap tepat. Lampu ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, di mana kawalan zarah sangat penting, dan pelepasan gas juga rendah. Ini meminimumkan jumlah barang rosak, kerja pembaikan yang diperlukan, dan penggunaan tenaga juga dapat dikawal dengan baik kerana cahaya inframerah dapat diserap dengan efektif oleh lapisan fotoresist.
Apa yang perlu anda persiapkan
Semasa pemasangan, pastikan pandangan ke arah permukaan wafer tidak terhalang, dan jalur haba yang digunakan harus bersih dan reflektif. Sebarang halangan akan menyebabkan masalah. Lampu ini akan berfungsi dengan lebih baik jika suhunya disesuaikan dengan spektrum penyerapan substrat. Jika proses pengeluaran berubah, perlu dilakukan penyesuaian kecil pada intensiti dan masa pengoperasian lampu. Beri masa 30 minit untuk lampu mencapai keseimbangan suhu, agar prestasinya tetap konsisten.