Op de productieafdeling bepalen de temperaturen die worden gebruikt tijdens het ‘zachte bakken’ en ‘harde bakken’ in feite de kwaliteit van het eindproduct. Als de temperatuur met maar 1°C verschuift, of als er een hete plek op de wafer ontstaat, dan beginnen de cruciale afmetingen van de wafer te verschuiven. Hierdoor neemt de productiekwaliteit al af, nog voordat de wafer zelfs maar in de蚀刻kamer terechtkomt.
Wat technisch gezien belangrijk is: We hebben de ozonvrije infraroodlamp ontworpen met behulp van nabij-infrarode straling en een kwarts-halogeenstructuur. Hierdoor blijft de thermische evenwichtstemperatuur binnen de grenzen die voor semiconductoren vereist zijn. Er wordt een thermische uniformiteit van minder dan één millimeter bereikt, met een nauwkeurigheid van ±0,1°C. Omdat er geen ozon is, zijn er ook geen oxidanten in de lucht in de schone ruimte. Hierdoor komt er geen ongewenste chemie in de fotoresist terecht tijdens het bakken. De output blijft stabiel, binnen 2%, gedurende meer dan 5.000 uur. De snelheid waarmee de temperatuur verandert, blijft constant van cyclus tot cyclus.
Waarom dit werkt in de lithografie: De temperatuur tijdens het ‘zachte bakken’ bepaalt de removal van oplosmiddelen en de spanning in de laag op de wafer. De temperatuur tijdens het ‘harde bakken’ bepaalt de hechting en de weerstand tegen蚀刻. De lamp zorgt ervoor dat er dezelfde hittepatroon wordt gecreëerd op de 200ste wafer als op de eerste wafer. Hierdoor blijven de afmetingen van de wafer constant. De lamp kan worden gebruikt in schone ruimten van klasse 1–100, waarbij de concentratie aan deeltjes goed wordt gecontroleerd. Er zijn minder defecte producten, minder herwerkingswerkzaamheden nodig, en de energieverbruik blijft voorspelbaar, omdat de NIR-straling efficiënt in de fotoresist wordt opgenomen.
Wat je moet meenemen in de planning: Tijdens de installatie moet er een goede zichtlijn naar het oppervlak van de wafer zijn, en moet er een schone, reflecterende warmtestraalweg zijn. Elke obstakel kan ervoor zorgen dat er schaduwen ontstaan. De lamp presteert het beste wanneer deze past bij de absorptieband van het substraat. Als je de productieprocessen wijzigt, moet je de intensiteit en de duur van het gebruik van de lamp aanpassen. Geef de lamp 30 minuten de tijd om in thermisch evenwicht te komen, zodat de reproduceerbaarheid gewaarborgd blijft.