Üretim alanında, küçük detaylar üzerinde yoğunlaşmayı öğrenirsiniz. Yumuşak pişirme işlemi sırasında 0,1°C’lik bir sıcaklık değişimi bile kritik boyut bozukluklarına yol açabilir ve bu da birçok waferin kullanılamaz hale gelmesine neden olabilir. Geleneksel ısıtıcılar termal ataletle mücadele eder; ancak NIR tipi wafer kurutucular bunu yapmaz.
Ne inşa ettik ve neden önemli? Bu NIR kurutucuyu yakın kızılötesi ışınım yöntemiyle geliştirdik. Amacımız, enerjinin doğrudan fotoresist tabakasına hızlı bir şekilde aktarılmasını sağlamaktır. Böylece tüm pişirme süreci boyunca waferler arasında ±0,1°C civarında bir tutarlılık elde ediliyor. Ayrıca, işlem kontrol limitleri içinde kalacak şekilde tekrarlanabilirlik sağlanıyor. Bu cihaz, 1–100 sınıfı temiz odalarda çalışabiliyor ve yerinde izleme sayesinde parçacık üretimi tamamen engelleniyor. Cihaz, 24/7 çalışabilme kapasitesine sahip ve pilot çalışmalarda herhangi bir arıza olmuyor. Servis ömrü ise on binlerce devre kadar olabiliyor.
Neden litografide uygundur? Litografide, yumuşak ve sert pişirme işlemleri fotoresistin viskozitesini belirler, çözücüyü uzaklaştırır ve yan duvarların şeklini belirler. Bu NIR kurutucu sayesinde sıcaklık, plaka üzerinde değil, wafer yüzeyinde sabit tutulur. Böylece ilk partiyle elliinci parti arasında sıcaklık sabit kalır.
Daha kısa pişirme süreleri elde edilir, enerji tüketimi azalır ve termal düzensizliklerden kaynaklanan reddedilen ürünlerin sayısı azalır. Böylece işlem imkanları genişler ve mevcut sistemlere entegrasyon daha kolay hale gelir.
Planlamanız gerekenler nelerdir? NIR kurutucular için wafer’e doğrudan görüş mesafesi ve kontrol altındaki bir yansıtıcı yol gereklidir. Üst üste konmuş taşıyıcılar veya standart dışı tutucular, wafer’in görüşünü engelleyebilir. Özel bir tutucu kullanılmalı ve bu tutucu, sistemin yapısına uygun şekilde yerleştirilmelidir.
Doğru şekilde ayarlandığında, kurutucu minimum bakım gerektirerek tekrarlanabilir sonuçlar verir. Ancak ayarlama toleransları, temas tabanlı sistemlere kıyasla daha katıdır.