Di bilik litografi ini, proses pembakaran perlu dilakukan dengan tepat agar profil fotorezistan dapat dipertahankan. Jika suhu berubah sebanyak dua darjah sahaja, ia akan menyebabkan variasi pada kualiti CD dan masalah lain. Sumber haba haruslah sesuai dengan sifat kimia fotorezistan tersebut—tanpa lebihan atau kekurangan haba. Profil suhu yang betul sangat penting, setiap kali proses berlangsung.
Apa yang penting di belakang tabir
Kami menggunakan lampu inframerah yang menghasilkan tenaga gelombang pendek yang disesuaikan dengan cara fotorezistan menyerapnya. Output spektralnya diselaraskan agar sepadan dengan respons fotorezistan tersebut. Di permukaan wafer, suhu harus kekal stabil pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula harus berada dalam lingkungan ±0.5°C antara satu kumpulan wafer dengan kumpulan yang lain. Struktur kuarsa dan reflektor direka untuk meminimumkan penghasilan zarah-zarah tertentu. Sistem ini juga direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Intensiti cahaya tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini mampu berfungsi dengan baik dalam proses pengeluaran. Lampu-lampu ini beroperasi 24/7 tanpa henti, jadi proses fotorezistan dapat berjalan lancar. Mereka mencapai suhu yang ditetapkan dalam masa beberapa saat sahaja, dan kestabilan suhu ini membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Hasilnya, jumlah wafer yang rosak berkurangan, kerja-kerja pembetulan menjadi lebih sedikit, dan kawalan ketebalan garisan pada wafer dapat dilakukan dengan lebih tepat. Selain itu, kerana profil suhu yang konsisten, proses pensijilan menjadi lebih cepat, dan pemindahan proses dapat dilakukan secara berulang-ulang.
Beberapa nota praktikal
Semasa pemasangan, pastikan voltan, sambungan, dan dimensi lubang lampu sesuai dengan alat yang digunakan. Intensiti cahaya sangat bergantung pada jarak antara lampu dan substrat, jadi kita perlu memastikan jarak tersebut memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Kami juga mengesyorkan agar pirometer dikalibrasi secara berkala. Untuk fotorezistan jenis deep-UV, pastikan spektrum cahaya yang digunakan sesuai dengan spesifikasi yang diberikan oleh pembekal—sesetengah formulasi memerlukan julat spektrum yang lebih sempit. Rancang sistem penyejukan dan pengurusan gangguan elektromagnetik lebih awal, agar jumlah zarah dan gangguan elektromagnetik dapat dikawal dalam batas yang ditetapkan.