На этапе литографии происходит фиксация параметров фотополимера. Если температура отклонится даже на два градуса, это приведет к изменениям в качестве изделия и появлению нежелательных пятен на поверхности пластины. Источник тепла должен соответствовать химическим свойствам фотополимера – без чрезмерного нагрева или охлаждения. Необходимо поддерживать идеальный термический профиль каждый раз.
Что важно при работе оборудования Мы используем инфракрасные лампы, которые излучают кратковолновую энергию, соответствующую способу поглощения света фотополимером. Спектральный выход энергии настроен так, чтобы он соответствовал спектру реакции самого фотополимера. На всей поверхности пластины температура сохраняется в пределах ±0,1°C, а точность удержания заданной температуры – в пределах ±0,5°C от партии к партии. Г Geometрия кварцевой оболочки и рефлектора позволяет минимизировать образование частиц. Оборудование предназначено для использования в чистых помещениях класса 1–100. Интенсивность излучения остается стабильной в течение более 5000 часов, с отклонением менее 5%.
Вот почему такое оборудование подходит для промышленного использования: Лампы работают круглосуточно без перерывов, поэтому процесс обработки фотополимера проходит стабильно. Они быстро достигают заданной температуры и сохраняют ее без необходимости повторных настроек, что снижает расход энергии. В результате уменьшается количество бракованных пластин, сокращается количество необходимых корректировок, а контроль толщины слоя становится более точным. Кроме того, поскольку термический профиль остается стабильным во всех устройствах, процесс калибровки происходит быстрее, а передача процессов между устройствами остается предсказуемой.
Несколько практических советов: При установке необходимо соответствовать напряжению, размерам разъемов и другим параметрам лампы. Интенсивность излучения зависит от расстояния между лампой и подложкой, поэтому мы указываем допустимые значения этого расстояния и рекомендуем периодически калибровать пирометр. Для использования фотополимеров, чувствительных к глубокому УФ-излучению, необходимо убедиться в соответствии спектра излучения с требованиями поставщика – некоторые формулы требуют более узкого спектра. Следует заранее продумать систему охлаждения и управление электромагнитными помехами, чтобы количество частиц и уровень помех оставались в заданных пределах.