Správné zahřívání při výrobě bio-senzorů Při výrobě bio-senzorů hrajete s teplotou opravdu nebezpečnou hru – vše musí být perfektní. Pokud stavíte...

Přestaňte plýtvat teplem ve svých biosenzorech Pokud jste někdy strávili čas v provozu na výrobu biosenzorů, víte, jaké to je s termickým...

Jak zabránit tomu, aby vyhořelá lampa zničila celou várku Při zpracování waferů při vysokém zatížení je vyhoření lampy opravdu noční můrou. Jde nejen...

Udržování waferů čistých: Jak zvládáme vysokonákladné ohřevání infračerveným zářením Buďme upřímní: když infračervená lampa selže pod vysokou zátěží,...

Proč má smysl používat UHP infračervená osvětlení při sušení polovodičů Pojďme mluvit o sušení destiček. Většina lidí je zvyklá na konvekční trouby –...

Udržování čistoty: Vytápění v prostorách třídy 100 Když pracujete v prostředí třídy 100, i jeden jediný zrnko prachu může způsobit katastrofu....

Jak dosáhnout maximálního množství tepla v bio-senzorech Při výrobě bio-senzorů na destičkách si nemůžete dovolit hádat ohledně míry tepla –...

Proč jsou zlatem potažené dvoutrubkové lampy opravdu důležité pro vysychání polovodičů Svět polovodičů usiluje o dosažení „zelených“ a bezolovnatých...

Řešení problému s nadměrným výdejem tepla v továrně na polovodiče Už jste se někdy dotkli povrchu nějakého zařízení a málem si spálili ruku? To je...

Jak zajistit bezpečnost při použití infračerveného zahřívání pro chemické čištění Pokud provozujete linky na čištění polovodičů, víte, o co jde....

Jak zabránit tomu, aby vaše lampy v chemických zónách způsobily katastrofu Buďme upřímní: umístění infračervené topné lampy do místnosti plné...

Přestaňte zahřívat celou mašinu a začněte zahřívat pouze desky. Většina běžných infračervených lamp je poněkud nepořádná – vyzařují teplo ve všech...

Náhradní díly pro lampy ASML – skutečné parametry pro práci s vysokonapěťovými, vysokohustotními destičkami Nemluvíme jen prázdné slova. Jsme...

Na povrchu litografické desky může teplotní kolísání nebo pomalé zahřívání zničit to, co by mělo být stabilní proces. Sušení polovodičových destiček,...

V prostoru určeném k litografii se pomocí procesů „měkkého“ a „tvrdého“ vypalování fixuje profil fotoresisty. I když dojde k odchylce teploty o pouhé...

V prostředí výroby je právě během procesů měkkého a tvrdého zahřívání určován konečný vzhled povrchu polovodiče. Stačí odchýlit teplotu o pouhých 1...

Na linii litografie stačí, aby se soft bake posunul o půl stupně, a může to ovlivnit křivku CD a ztratit hodinu startů waferů. Vyvinuli jsme sušicí...

Na lince perovskitový stack nečeká. Rozpouštědlo musí odpařit, krystal musí nukleovat a rozhraní musí zůstat neporušená – to vše při velmi omezeném...