제조 현장에서는 사소한 문제들도 신경 써야 합니다. 소프트 베이크 과정 중에 온도가 0.1°C만 변동해도 치명적인 결과를 초래할 수 있으며, 그로 인해 많은 웨이퍼가 폐기될 수 있습니다. 기존의 가열 방식은 열저항 문제를 해결하지 못하지만, NIR 웨이퍼 건조기는 그러한 문제가 없습니다.
우리가 만든 제품과 그 중요성 우리는 근적외선 방사 열원을 활용하여 이 NIR 건조기를 만들었습니다. 핵심은 포토레지스트층에 직접 에너지를 전달하는 것입니다. 이를 통해 전체 베이킹 과정 동안 웨이퍼의 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지됩니다. 또한 반복 가능성도 높아서, 동일한 로트 내에서의 변동도 공정 제어 한계 내에 있습니다. 이 장비는 클래스 1–100 등급의 청정실에서 작동하며, 현장 모니터링을 통해 입자 발생이 전혀 없음이 확인됩니다. 이 장비는 24/7 연속 작동이 가능하며, 파일럿 테스트 중에도 계획되지 않은 다운타임이 없습니다. 서비스 수명도 수만 회의 작동 주기에 달합니다.
왜 이 장비가 리소그래피 공정에 적합한가? 리소그래피 공정에서는 소프트 베이크와 하드 베이크를 통해 포토레지스트의 점도를 조절하고 용매를 제거하며, 웨이퍼의 측면 프로파일을 결정합니다. 이 NIR 건조기를 사용하면 웨이퍼 표면의 온도를 일정하게 유지할 수 있습니다. 따라서 첫 번째 로트부터 50번째 로트까지도 온도가 일정하게 유지됩니다.
또한 베이킹 시간을 줄일 수 있으며, 에너지 소비도 줄어듭니다. 열 불균일성으로 인한 폐기물도 줄어듭니다. 이로 인해 공정의 유연성이 높아지고, 기존 공정과의 통합도 용이해집니다.
계획해야 할 사항 NIR 건조기를 사용하려면 웨이퍼에 직접적인 시야가 필요하며, 반사 경로도 제어되어야 합니다. 적층된 캐리어나 비표준형 척은 웨이퍼에 그림자를 만들 수 있습니다. 따라서 전용 고정 장치를 사용해야 하며, 이를 공정 라인과 정확하게 맞춰야 합니다.
일단 정렬되면, 이 건조기는 최소한의 유지보수만으로 반복 가능한 성능을 제공합니다. 하지만 설정 정밀도는 접촉식 시스템보다 더 엄격합니다.