Berhenti membuang masa menunggu wafer menjadi panas
Jika anda pernah bekerja di fasiliti pengeluaran semikonduktor, pasti anda tahu betapa menyakitkannya harus menunggu.
Halangan terbesar dalam proses pemprosesan semikonduktor bukanlah prosesnya sendiri, tetapi masa yang diperlukan untuk memanaskan dan mendinginkan wafer tersebut. Sistem penyejukan menggunakan udara biasa sangat lambat. Anda sebenarnya hanya membawa udara panas ke sekeliling bilik tersebut, dengan harapan wafer akan mendapat cukup haba untuk diproses. Cara ini sangat lambat dan mengurangkan kelajuan pengeluaran.
Sebaliknya, penggunaan sinar inframerah dapat membantu memanaskan wafer dengan lebih efektif. Daripada memanaskan udara terlebih dahulu, sinar inframerah menghantar tenaga elektromagnetik terus ke permukaan wafer. Ini merupakan cara yang berbeza untuk menggunakan tenaga.
Mengapa cara ini berkesan
Udara merupakan penebat haba yang buruk. Apabila menggunakan sistem penyejukan udara, banyak tenaga dibazirkan untuk memanaskan ruang kosong di dalam bilik tersebut. Sebaliknya, sinar inframerah tidak memerlukan udara sebagai perantara. Tenaga akan sampai ke permukaan wafer dengan cepat. Ini bermakna lebih banyak wafer boleh diproses setiap jam. Ia sama seperti perbezaan antara memanaskan bilik menggunakan pemanas udara dan merasakan sinar matahari pada hari yang sejuk.
Masalah yang mungkin timbul
Namun, sinar inframerah juga mempunyai kelemahan. Kerana kuasanya yang tinggi, mudah untuk melebihi suhu yang diinginkan. Jika sensor yang digunakan tidak tepat, wafer boleh rosak akibat suhu yang berlebihan.
Untuk mengelakkan hal ini, kita menggunakan sistem maklum balas tertutup. Sistem ini membolehkan sistem “merasai” suhu secara langsung dan menyesuaikan kuasa yang digunakan. Ini jauh lebih baik daripada sistem pemanasan konvensional yang hanya mengeluarkan haba tanpa kawalan yang tepat.
Realiti
Sebelum menggantikan peralatan lama anda, ingatlah bahawa sinar inframerah bukanlah penyelesaian ajaib. Ia mencipta kepadatan haba yang tinggi. Walaupun masa pemprosesan dapat dikurangkan, peralatan anda perlu menanggung tekanan yang lebih besar. Secara khusus, komponen seperti pelindung vakum dan gasket akan mengalami tekanan akibat perubahan suhu yang mendadak. Anda perlu memastikan bahawa komponen tersebut mampu menahan tekanan tersebut.
Namun, jika anda ingin meningkatkan kapasiti pengeluaran, sinar inframerah merupakan pilihan yang baik. Saiznya yang kecil berbanding dengan oven pengudaraan biasa membolehkan wafer diproses dengan lebih cepat, tanpa merosakkan silikon tersebut.