300mmウェーハを使う場合、フォトレジストのベイク処理中に0.5℃の温度変動があると、それは単にグラフ上に反映されるだけではありません。実際には、重要な寸法がナノメートル単位で変化し、その結果、歩留まりの低下という形で直接的な影響が出ます。リソグラフィーやレジスト処理において、温度というのは単な...

ファブフロアでは、ベーク温度の半度のずれは小さな差ではありません。それはウェーハのロス、仕様外にずれるフォトレジストの厚み、そしてライン停止の原因となる可能性があります。リソグラフィにおいて、熱制御は単なる付加価値ではなく、プロセスそのものです。 技術的に重要なポイント 熱モジュールはウェーハレベ...