なぜ、すべてのランプをテストするのか？（そして、それがお客様の製造工程にとってなぜ重要なのか） 乾燥処理を行う際、高ワット数の熱と、極めてデリケートな電子部品を同時に扱わなければなりません。これは非常に厳しい状況です。絶縁処理にわずかなミスがあるだけで、全体のシステムが停止してしまいます。さらに悪...

MEMSウェーハの乾燥における電気出力の最大化――金メッキされた反射ヒーターの活用 このヒーターを開発した理由は、投入されるすべての電力がウェーハ上で効果的に熱エネルギーとして利用されるようにするためです。MEMSの製造においては、単に温度を上げるだけでは不十分です。正確で再現性のある熱を供給し、...

リソグラフィーの工程では、温度の変動やゆっくりとした加熱が、本来安定しているはずのプロセスを台無しにしてしまうことがあります。ウェーハの乾燥やソフトベイク、ハードベイクには、再現性が高く、迅速で、かつ安定した熱源が必要です。当社では、追加コストをかけることなく、そのような条件を満たす短波赤外線石英...

リソグラフィラインにおいて、ソフトベークでたった0.5度のずれがあればCDカーブが変動し、ウェハスタートの時間を1時間消費することになる。そこで、熱予算の変動を排除するために燃料電池用触媒乾燥ランプを開発した。このランプは、フォトレジストの吸収帯に合致する近赤外線（NIR）帯域で高速かつ乾燥熱を照...

Out on the line, the Micro LED wafer comes out of cleaning and just sits there. Any moisture left on the surface is a straight invitation to pattern...

ライン上では、ペロブスカイト積層体はただ待っているわけではない。溶媒は蒸発しなければならず、結晶は核生成しなければならず、界面は維持されなければならない――しかも熱予算は極めて限られている。ひとつのホットスポットや冷たい端部があるだけで、セルはプロセスウィンドウの外にずれてしまう。歩留まりはサイク...