リソグラフィーの工程では、温度の変動やゆっくりとした加熱が、本来安定しているはずのプロセスを台無しにしてしまうことがあります。ウェーハの乾燥やソフトベイク、ハードベイクには、再現性が高く、迅速で、かつ安定した熱源が必要です。当社では、追加コストをかけることなく、そのような条件を満たす短波赤外線石英ハロゲンランプを使用しています。
重要なポイント 当社では、迅速で直接的なエネルギー伝達を実現するために、短波赤外線石英ハロゲン素子を採用しています。応答時間は数秒未満であり、そのため温度制御が正確に行えます。これは、薄いゲート層や低k膜の熱管理において非常に重要です。ウェーハ全体にわたって、ランプの出力はフォトレジスト表面で±0.1℃の均一性を保つように調整されており、これにより重要な寸法や側壁角度が一定に保たれます。
ランプ本体はクリーンルーム対応であり、クラス1～100に適合します。また、封止された端部と低ガス放出性の材料を使用しているため、粒子数が安定しています。5,000時間以上使用しても出力の変動は5％未満であり、そのためプロセスの安定性が保たれます。
なぜ生産現場で信頼されるのか 実用的な利点が多いからです。より速いベイクサイクルにより、処理速度が向上し、エネルギー消費も削減されます。厳格な温度制御により、フォトレジストの再加工が減少し、化学物質の消費や歩留まりの低下も防げます。同じランプを使えば、ウェーハの乾燥も迅速に行えるため、リソグラフィー前の水跡や欠陥を最小限に抑えることができます。交換も簡単であり、予期しない停止時間を減らし、メンテナンスの計画性を高めます。
問題を回避するためのポイント これらのランプは標準的なOEMランプハウジングに適合します。注文する前に、接続端子の種類、ランプの長さ、電圧を確認してください。最良の均一性を得るためには、反射器の形状を適切に選び、ランプとステージの距離を適切な範囲内に保つ必要があります。石英には標準的なクリーンルームでの取り扱いが求められます。指紋や油分はホットスポットを作り、出力を低下させる原因となります。定格出力で使用すれば、シフトごとに再現性の高い結果が得られます。